システムを彫刻レーザー ウェハ両面彫刻を提供します
3 月 24 日 JP Sercel アソシエイツ株式会社 (JPSA) は、新しい両面レーザー彫刻 (DSS) プロセスを発明し、レーザーの新しいウェハ彫刻システムを導入します。JPSA の DSS システムの彫刻は、金属シート、ウェハ プロセス要件に応じて、シリコン、サファイア Led で使用できます。
JPSA は、高精度、高速リニア アライメント システムを作成するのに、特許取得済みの背面カメラ技術を使用しました。レーザー彫刻システム最大 150 mm/秒の速度による高スループットに対応し、エピ層を損傷していません。
すべて JPSA 彫刻システムを使用して、DSS、およびこれらの DSS システムがアップグレードされた、IX 210、IX 300 IX 6100 などなどなど。DSS システム バックアップする前から簡単に移行をできます。
JPSA 会長チャーリー クーネオは言った:「正の高度な深い UV 彫刻最前線にされている多くの年 JPSA と彫刻システム私たちの最近開発されたバックは、この新しいレーザー技術彫刻を生産していますいます。ある生産要件に高効率なレーザー彫刻のシステムを必要とする能力」
JPSA は、特に紫外線、エキシマ レーザーと超短パルス レーザーの分野で、効率的で安定した生産システムを提供するため知られています。当社の微細加工システム、レーザー ビーム配信システム、オートメーション、モーター制御システムは、太陽電池、半導体、医療やその他の産業用アプリケーションで使用されます。JPSA のレーザーは、注文製造、光学設計のコンサルティング、アプリケーション開発、エキシマ レーザー改修サービスでも使用されています。
