パルスＮｄ：ＹＡＧレーザー洗浄プロセスは、高強度ビーム、短パルスに基づいて、レーザーによって生成された光パルスの特性に依存している。
レーザと汚染層との間の相互作用によって引き起こされる光物理学的反応 その物理的原理は次のようにまとめることができます。
１）レーザーによって放出されたビームは、処理されるべき表面上の汚染層によって吸収される。
２）大きなエネルギーを吸収すると、衝撃波を発生させる急速に膨張するプラズマ（高度にイオン化された不安定ガス）を形成する。
３）衝撃波は汚染物質を破片にして拒絶する。
４）光パルス幅は、処理されている表面を損傷するであろう熱の蓄積を回避するのに十分に短くなければならない。
５）実験は、金属の表面に酸化物があると、プラズマが金属表面に発生することを示した。
プラズマは、エネルギー密度が、除去される汚染層または酸化物層に依存するしきい値を超える場合にのみ生成される。 このしきい値
効果は、基板材料の安全性を確保しながら効果的な洗浄を行うために重要です。 血漿の存在についての第二の閾値もある。 可能なら
量密度がこの閾値を超えると、基板材料は破壊されるだろう。 基板材料の効果的な洗浄を確実にするために、それはに基づいていなければなりません
レーザパラメータは、光パルスのエネルギー密度が厳密に２つのしきい値の間にあるように調整される。
各レーザーパルスは、ある厚さの汚染層を除去する。 汚染層が厚い場合、洗浄には複数のパルスが必要です。 表面を乾かす
網目加工に必要なパルスの量は、表面汚染の程度によって異なります。 2つのしきい値によってもたらされる重要な結果は、清掃の自己管理です。 高エネルギー密度
第１の閾値における光パルスは、基板材料に達するまで常に汚染物質を排除するだろう。 しかし、そのエネルギー密度は基板材料のエネルギー密度より低いため
しきい値が破壊されているため、基板は損傷しません。
