12月30日、CNNC Young Talentプロジェクトの技術テスト受理報告会議「高繰り返し率、高エネルギー、ショック強化のための短いパルスレーザーの開発」がTongfang Chaoguangで開催されました。チャン・シェンジン、中国科学アカデミーの物理化学技術研究所の研究者であるファン・ユアニュアン、中国科学アカデミーのマイクロエレクトロニクス研究所の研究者であるZhang Ling、中国の半導体研究所の研究者であるZhang Lingアカデミーオブサイエンス、Xu Chang、Tongfang Chaoguangのゼネラルマネージャー、Xiong Xiaojun、副ゼネラルマネージャー、および関連するプロジェクトリーダーが会議に出席しました。
会議で、プロジェクトリーダーのZhang Fengfeng博士は、プロジェクトの背景、目標、評価指標、結果の適用、および完了ステータスに関する詳細なレポートを提供しました。このプロジェクトは、高繰り返し率、高エネルギー、衝撃強化のための短いパルスレーザーのデモンストレーションプロトタイプを完了し、1064NMおよび532NMレーザー空間出力と532NMレーザー繊維結合出力を100Hzの繰り返し速度で達成しました。波長、繰り返し速度、パルス幅、単一パルスエネルギー、電力安定性などの技術的指標はすべて、実装計画で指定された技術指標を満たしました。
専門家グループは、現場のテストの概要を評価しました。質問、議論、オンサイトテストの後、プロジェクトの技術指標が実装計画の目標を達成し、開発タスクを完了し、技術テストに合格することに同意したことが全会一致で合意されました。
