EUVリソグラフィマシンは、最新のチップ製造における重要な機器であり、そのコアサブシステムの1つはレーザー-プラズマ（LPP）EUV光源です。以前は、このソースのグローバル市場は、主に米国企業であるCymerが製造したCO2レーザーに依存していました。これらのレーザーは、5％を超えるエネルギー変換効率（CE）でSNプラズマを励起し、ASMLリソグラフィマシンの駆動光源として機能します。 ASMLは現在、EUV光源を使用できる世界で唯一のリソグラフィマシンメーカーであり、この分野で100％の市場シェアを維持しています。しかし、中国の米国商務省によって課された輸出規制により、ASMLおよびその他のチップ企業は、2019年以降、- Edge EUVリソグラフィモデルを中国に販売することを禁止されており、中国のチップ産業の発展を深刻に妨げています。
しかし、中国の研究者は容疑ではありませんでした。長年の努力の後、Lin Nanのチームは新しいアプローチを開拓し、駆動光源としてCO2レーザーの代わりに固体-状態パルスレーザーを使用しました。現在、チームの1µm Solid -状態レーザーは、3.42％の最大変換効率を達成しています。まだ4％を超えていませんが、オランダとスイスの研究チームのパフォーマンスを上回り、商業光源の5.5％の変換効率の半分です。研究者は、光源実験プラットフォームの理論的最大変換効率が6％に近づく可能性があり、将来さらに改善される可能性があると推定しています。関連する研究結果は、最近、中国レーザーマガジンの2025号の表紙、第6号（3月下旬）に掲載されました。
このペーパーの対応する著者であるLin Nanは、彼の研究の背景と専門知識でこの成果を強くサポートしています。彼は現在、中国科学アカデミーの上海光学および精密機械学研究所の研究者および博士課程、中国科学アカデミー、国立海外の最高-レベルの才能、ウルトラの国家主要研究所の副局長-激しいレーザー科学およびテクノロジーの主要な技術責任者の統合担当責任者であり、中国のメンバーの技術責任者であり、 Micro -中国光学工学協会のナノ委員会。 Lin Nanは以前、研究科学者として、そしてオランダのASMLのR＆D部門の光源技術の責任者として働いていました。彼は、研究、エンジニアリングプロジェクトの開発、および大規模な-スケールの統合回路製造および測定装置の管理の経験、エンジニアリングプロジェクト開発、および管理の経験を持っています。彼は、米国、日本、韓国、およびその他の国で110を超える国際特許を申請し、付与されており、その多くは商業化され、最新のリソグラフィマシンとメトロロジー機器に組み込まれています。彼はスウェーデンのルンド大学を卒業し、2023年のノーベル賞受賞者の物理学のアン・ラ・フリエの下で学びました。彼はまた、パリ- Saclay大学とフランスの原子エネルギー庁から共同博士号を取得し、スイスのEthチューリッヒでポスドク研究を実施しました。
今年の2月に、Lin Nanのチームは、ジャーナル「Reswortin and Optoelectronics」の第3号でカバーペーパーを公開し、高空間閉じ込められたレーザースズ血漿に基づくブロードバンドの極端な紫外線効率の高い生成スキームを提案しました。このスキームは、最大52.5％の変換効率を達成しました。これは、これまでに極端な紫外線バンドで報告されている最高の変換効率です。現在商業的な高-注文高調波光源と比較して、変換効率は約6桁改善され、国内のリソグラフィ測定レベルの新しい技術サポートが提供されます。
Lin Nanのチームによって開発されたSOLID -状態レーザー-ベースのプラットフォームは、ASMLの産業用リソグラフィ装置で使用されるCO2 -駆動技術とは異なります。この論文は、「変換効率が3％のみであっても、固体-状態レーザー-駆動LPP - EUVソースがWATT -レベルのパワーを提供することができ、EUV曝露の合成と登録の検査に適しています」と述べています。対照的に、市販のCO2レーザーは、高-電力がかさばっており、電気-の光変換効率が低く（5％未満）、高稼働コストと電力コストが発生します。一方、固体-状態パルスレーザーは、過去10年間で急速に進歩しており、現在キロワットレベルの出力に達し、将来10倍以上に達すると予想されています。
Although research on solid-state laser-driven plasma EUV sources is still in the early experimental stages and has yet to reach full commercialization, Lin Nan's team's research results have provided important technical support for the domestic development of solid-state laser-driven plasma EUV lithography sources and measurement sources, and have FAR - EUVリソグラフィーとその主要なコンポーネントと技術の独立した研究開発の重要性に達しています。
今月の投資家電話会議で、ASML CFO Roger Dassenは、リソグラフィ補充技術における中国の進捗状況に気づいていると述べ、中国がEUV光源を生産する可能性があることを認めました。しかし、彼は、中国が高度なEUVリソグラフィー機器を生産するのに何年もかかると信じていました。しかし、中国の研究者の絶え間ない努力と継続的なブレークスルーは、この期待を徐々に破っています。 2024年、ASMLは-}年の2.55％の増加で年間-である282億6,300万ユーロの純売上高を達成し、新しいレコードを設定しました。中国は最大の市場となり、売上は1011億6,500万ユーロで、世界収益の36.1％を占めました。現在の半導体の輸出管理と関税の文脈でさえ、ASMLは中国の売上が2025年の総収益のわずかな25％を占めると予想しています。中国のチップ産業の増加は止められません。
